氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。

　　真空燒結爐產品特點介紹 　　真空燒結爐的使用很廣泛，今天我們就和大家介紹下它的特點。 　　1·一體化設計，結構緊湊，外形美觀，自帶駙馬論腳輪，移機搬遷方便快捷 　　2·采用底部電動升降，結構精巧，方便，移動平穩裝卸料方便 　　3·采用觸摸屏+plc控制方式，自動化程度高，操作直觀，功能強大。 　　4·在觸摸屏內可預存幾十種燒結工藝，一次編輯，以后直接調用使用，省去多次編輯工藝的麻煩，避免輸入錯誤，燒壞產品。 　　5·燒結的溫度，真空度，等數據可實時記錄，也可隨時啟動停止記錄，減少無用數據，數據可查詢，可導出下載。 　　6·燒結溫度高，用鉬絲發熱體，可達1600℃。 　　7·自帶水冷機，省去客戶做水路工程的麻煩。 　　真空燒結爐設備參數 　　1·設備總功率：40Kw;電源電壓：3相380V,50Hz 　　2·溫度：2000℃ 　　3·額定溫度：0~2000℃ 　　4·冷態極限真空度：6.67×10E-2Pa(機械泵+羅茨泵)6.67×10E-3Pa(機械泵+擴散泵)5.0×10E-4Pa(機械泵+分子泵) 　　5·壓升率：≦2pa/h